Fotochemiese Metaal Ets
Gebruik rekenaargesteunde ontwerp (CAD)
Die proses van fotochemiese metaalets begin met die skepping van 'n ontwerp met behulp van CAD of Adobe Illustrator.Alhoewel die ontwerp die eerste stap in die proses is, is dit nie die einde van rekenaarberekeninge nie.Sodra die lewering voltooi is, word die dikte van die metaal bepaal asook die aantal stukke wat op 'n plaat sal pas, 'n noodsaaklike faktor om die produksiekoste te verlaag.'n Tweede aspek van die dikte van die plaat is 'n bepaling van deeltoleransies, wat afhang van die deelafmetings.
Die proses van fotochemiese metaalets begin met die skep van 'n ontwerp met behulp van CAD of Adobe Illustrator.Dit is egter nie die enigste rekenaarberekening wat betrokke is nie.Nadat die ontwerp voltooi is, word die dikte van die metaal bepaal, asook die aantal stukke wat op 'n plaat kan pas om produksiekoste te verminder.Daarbenewens hang die deeltoleransies af van die deelafmetings, wat ook die dikte van die plaat in ag neem.
Metaalvoorbereiding
Soos met suur-ets, moet die metaal deeglik skoongemaak word voordat dit verwerk word.Elke stuk metaal word geskrop, skoongemaak en skoongemaak met waterdruk en 'n sagte oplosmiddel.Die proses elimineer olie, kontaminante en klein deeltjies.Dit is nodig om 'n gladde, skoon oppervlak te verskaf vir die aanwending van die fotoweerstandfilm om veilig te kleef.
Lamineer metaalplate met fotobestande films
Laminering is die toepassing van die fotoweerstandfilm.Die metaalplate word tussen rollers geskuif wat die laminering bedek en eweredig toepas.Om enige onbehoorlike blootstelling van die lakens te vermy, word die proses voltooi in 'n kamer wat met geel ligte verlig is om blootstelling aan UV-lig te voorkom.Behoorlike belyning van die velle word verskaf deur gate wat in die rande van die velle gepons is.Borrels in die gelamineerde deklaag word voorkom deur die velle te vakuumverseël, wat die lae laminaat platdruk.
Om die metaal vir fotochemiese metaalets voor te berei, moet dit deeglik skoongemaak word om olie, kontaminante en deeltjies te verwyder.Elke stuk metaal word geskrop, skoongemaak en met 'n ligte oplosmiddel en waterdruk gewas om 'n gladde, skoon oppervlak vir die aanbring van die fotoweerstandfilm te verseker.
Die volgende stap is laminering, wat die toepassing van die fotoweerstandfilm op die metaalplate behels.Die velle word tussen rollers geskuif om die film eweredig te bedek en aan te wend.Die proses word in 'n geelverligte kamer uitgevoer om blootstelling aan UV-lig te voorkom.Gate wat in die rande van die velle gepons is, sorg vir behoorlike belyning, terwyl vakuumseëling die lae laminaat platmaak en verhoed dat borrels vorm.
Fotoresistverwerking
Tydens fotoweerstandverwerking word die beelde van die CAD- of Adobe Illustrator-weergawe op die laag fotoweerstand op die metaalplaat geplaas.Die CAD- of Adobe Illustrator-weergawe word aan beide kante van die metaalplaat afgedruk deur dit oor en onder die metaal te plaas.Sodra die metaalplate die beelde aangebring het, word hulle blootgestel aan UV-lig wat die beelde permanent plaas.Waar die UV-lig deur die helder areas van die laminaat skyn, word die fotoweerstand ferm en verhard.Swart areas van die laminaat bly sag en word nie deur die UV-lig beïnvloed nie.
In die fotoresist-verwerkingstadium van fotochemiese metaalets, word die beelde van die CAD- of Adobe Illustrator-ontwerp na die laag fotoresist op die metaalplaat oorgedra.Dit word gedoen deur die ontwerp oor en onder die metaalplaat te plaas.Sodra die beelde op die metaalplaat aangebring is, word dit aan UV-lig blootgestel, wat die beelde permanent maak.
Tydens die UV-blootstelling laat die helder areas van die laminaat die UV-lig deur, wat veroorsaak dat die fotoweerstand verhard en ferm word.Daarteenoor bly die swart areas van die laminaat sag en onaangeraak deur die UV-lig.Hierdie proses skep 'n patroon wat die etsproses sal lei, waar die verharde areas sal bly en die sagte areas sal weggeëts word.
Ontwikkel die Blaaie
Van fotoweerstandverwerking beweeg die velle na die ontwikkelmasjien wat 'n alkali-oplossing aanwend, meestal natrium- of kaliumkarbonaatoplossings, wat die sagte fotoweerstandfilm wegspoel en die dele wat geëts moet word, laat ontbloot.Die proses verwyder die sagte weerstand en laat die verharde weerstand, wat die deel is wat geëts moet word, los.In die prent hieronder is die verharde areas in blou, en die sagte areas is grys.Die areas wat nie deur die verharde laminaat beskerm word nie, is blootgestelde metaal wat tydens ets verwyder sal word.
Na die fotoresist-verwerkingstadium word die metaalplate dan na die ontwikkelmasjien oorgeplaas waar 'n alkali-oplossing, tipies natrium- of kaliumkarbonaat, toegedien word.Hierdie oplossing spoel die sagte fotoweerstandfilm weg en laat die dele wat geëts moet word, bloot.
As gevolg hiervan word die sagte resist verwyder, terwyl die verharde resist, wat ooreenstem met die areas wat geëts moet word, agtergelaat word.In die gevolglike patroon word die verharde areas in blou getoon, en die sagte areas is grys.Die areas wat nie deur die verharde resist beskerm word nie, verteenwoordig die blootgestelde metaal wat tydens die etsproses verwyder sal word.
Ets
Baie soos die suur-etsproses, word die ontwikkelde velle op 'n vervoerband geplaas wat die velle deur 'n masjien beweeg wat etsmiddel op die velle gooi.Waar die etsmiddel met die blootgestelde metaal verbind, los dit die metaal op wat die beskermde materiaal verlaat.
In die meeste fotochemiese prosesse is die etsmiddel ferrichloried, wat van die onderkant en bokant van die vervoerband gespuit word.Ferrichloried word as 'n etsmiddel gekies omdat dit veilig is om te gebruik en herwinbaar is.Koperchloried word gebruik om koper en sy legerings te ets.
Die etsproses moet noukeurig ingestel word en word beheer in ooreenstemming met die metaal wat geëts word, aangesien sommige metale langer neem om te ets as ander.Vir die sukses van fotochemiese ets is noukeurige monitering en beheer van kardinale belang.
In die etsstadium van fotochemiese metaalets word die ontwikkelde metaalplate op 'n vervoerband geplaas wat dit deur 'n masjien beweeg waar etsmiddel op die plate gegooi word.Die etsmiddel los die blootgestelde metaal op en laat die beskermde areas van die plaat agter.
Ferrichloried word algemeen gebruik as 'n etsmiddel in die meeste fotochemiese prosesse omdat dit veilig is om te gebruik en herwin kan word.Vir koper en sy legerings word eerder koperchloried gebruik.
Die etsproses moet noukeurig ingestel en beheer word volgens die tipe metaal wat geëts word, aangesien sommige metale langer etstye as ander benodig.Om die sukses van die fotochemiese etsproses te verseker, is noukeurige monitering en beheer van kardinale belang.
Stroping van die oorblywende weerstandsfilm
Tydens die stroopproses word 'n resist stripper op die stukke aangebring om enige oorblywende resist film te verwyder.Sodra die stroping voltooi is, bly die voltooide deel oor, wat in die prent hieronder gesien kan word.
Na die etsproses word die oorblywende weerstandsfilm op die metaalplaat afgestroop deur 'n weerstandstropper aan te wend.Hierdie proses verwyder enige oorblywende weerstandsfilm van die oppervlak van die metaalplaat.
Sodra die stroopproses voltooi is, bly die voltooide metaaldeel oor, wat in die gevolglike beeld gesien kan word.
